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29/05/24, 21:00:44
ASML planea revolucionar la litografía con su máquina Hyper-NA
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ASML, la empresa neerlandesa líder en fabricación de equipos de litografía, está planeando desarrollar una máquina aún más avanzada que su actual equipo de litografía ultravioleta extremo (UVE) y alta apertura (High-NA). Esta nueva máquina, llamada Hyper-NA, promete llevar la producción de chips a un nivel de precisión y eficiencia sin precedentes. Actualmente, el equipo de litografía UVE de alta apertura de ASML es el más avanzado del mundo, permitiendo la fabricación de chips de 2 nm y más pequeños. Intel, por ejemplo, ya tiene uno de estos equipos en fase de pruebas. ASML planea entregar unos 20 equipos de este tipo anualmente a partir de 2025. Durante la conferencia ITF World 2024, ASML anunció que ha logrado un nuevo récord de densidad de transistores utilizando su máquina de litografía UVE de alta apertura. Sin embargo, la noticia más impactante es que Martin van den Brink, ex presidente y director de tecnología de ASML, ha propuesto comenzar el desarrollo de la máquina Hyper-NA, lo que sugiere que este proyecto ya está en marcha. La apertura numérica (NA) de la máquina Hyper-NA será de 0,75, superior a los valores de 0,33 de las máquinas UVE de primera generación y 0,55 de los equipos UVE de alta apertura. Este aumento permitirá transferir patrones de mayor resolución a las obleas, lo que es crucial para la fabricación de chips más avanzados. La longitud de onda de la luz utilizada seguirá siendo de 13,5 nm. Se espera que la primera máquina Hyper-NA esté lista en 2033, un tiempo de desarrollo más corto comparado con las máquinas UVE de alta apertura debido a la base tecnológica compartida. Aunque el coste exacto de la Hyper-NA aún no se conoce, se anticipa que será superior a los 350 millones de euros que cuesta una máquina UVE de alta apertura. Este avance no solo refuerza la posición de ASML como líder en tecnología de litografía, sino que también es un paso estratégico para mantener la ventaja tecnológica sobre China en la fabricación de chips, un objetivo respaldado por Estados Unidos y sus aliados.
fuente (https://www.xataka.com/empresas-y-economia/asml-planea-fabricar-equipo-litografia-prestaciones-ciencia-ficcion-maquina-hyper-na)
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ASML, la empresa neerlandesa líder en fabricación de equipos de litografía, está planeando desarrollar una máquina aún más avanzada que su actual equipo de litografía ultravioleta extremo (UVE) y alta apertura (High-NA). Esta nueva máquina, llamada Hyper-NA, promete llevar la producción de chips a un nivel de precisión y eficiencia sin precedentes. Actualmente, el equipo de litografía UVE de alta apertura de ASML es el más avanzado del mundo, permitiendo la fabricación de chips de 2 nm y más pequeños. Intel, por ejemplo, ya tiene uno de estos equipos en fase de pruebas. ASML planea entregar unos 20 equipos de este tipo anualmente a partir de 2025. Durante la conferencia ITF World 2024, ASML anunció que ha logrado un nuevo récord de densidad de transistores utilizando su máquina de litografía UVE de alta apertura. Sin embargo, la noticia más impactante es que Martin van den Brink, ex presidente y director de tecnología de ASML, ha propuesto comenzar el desarrollo de la máquina Hyper-NA, lo que sugiere que este proyecto ya está en marcha. La apertura numérica (NA) de la máquina Hyper-NA será de 0,75, superior a los valores de 0,33 de las máquinas UVE de primera generación y 0,55 de los equipos UVE de alta apertura. Este aumento permitirá transferir patrones de mayor resolución a las obleas, lo que es crucial para la fabricación de chips más avanzados. La longitud de onda de la luz utilizada seguirá siendo de 13,5 nm. Se espera que la primera máquina Hyper-NA esté lista en 2033, un tiempo de desarrollo más corto comparado con las máquinas UVE de alta apertura debido a la base tecnológica compartida. Aunque el coste exacto de la Hyper-NA aún no se conoce, se anticipa que será superior a los 350 millones de euros que cuesta una máquina UVE de alta apertura. Este avance no solo refuerza la posición de ASML como líder en tecnología de litografía, sino que también es un paso estratégico para mantener la ventaja tecnológica sobre China en la fabricación de chips, un objetivo respaldado por Estados Unidos y sus aliados.
fuente (https://www.xataka.com/empresas-y-economia/asml-planea-fabricar-equipo-litografia-prestaciones-ciencia-ficcion-maquina-hyper-na)